有序图案化面板光解水制氢研究取得进展

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文章导读
光解水制氢长期被光生载流子复合和表面逆反应拖住效率后腿,传统颗粒型Z型体系又因颗粒随机接触、电荷转移路径不可控而雪上加霜。中国科学院金属研究所另辟蹊径,在FTO导电基底上构筑t-BVO与m-BVO交替条纹,让电子与空穴各归其位,再分别沉积析氢、析氧助催化剂,实现化学计量比全分解水,产氢量较未图案化对照提升约4倍。这种有序图案化设计,能否成为规模化光催化面板的新蓝图?
— 内容由好学术AI分析文章内容生成,仅供参考。

基于半导体材料的光解水技术光生载流子易复合、表面逆反应严重,制约了制氢效率提升。全固态Z型异质结通过导电介质将两种半导体串联,既能提供高驱动力,又能把光生电子和空穴分别导向不同组分,因而备受关注。然而,传统颗粒型Z型体系多依赖颗粒间随机接触,电荷转移路径不可控,容易加剧复合,限制载流子利用效率。

近日,中国科学院金属研究所提出有序图案化策略,在FTO导电基底上构筑p型四方锆石BiVO4(t-BVO)与n型单斜白钨矿BiVO4(m-BVO)交替条纹,利用FTO介导Z-scheme电荷转移,实现光生电子和空穴的空间分离,有效抑制复合与逆反应,提升光催化全解水性能。

图案化集成过程以金属有机分解法在FTO上制备m-BVO薄膜,形成条纹图案。随后,在暴露的FTO区域用水热法外延生长t-BVO,最终获得约15μm宽的t-BVO/m-BVO交替条纹面板。结果表明,FTO作为导电介质在相邻条纹间建立了Z-scheme电荷转移通道,光生电子富集于p型t-BVO,光生空穴富集于n型m-BVO。基于此,团队将Rh@CrOx选择性光沉积在t-BVO条纹上作为析氢助催化剂,将MnOx选择性沉积在m-BVO条纹上作为析氧助催化剂,实现了氧化/还原位点的空间分离,抑制了电荷复合和逆反应。在全光谱照射下,图案化面板实现了化学计量比全分解水,1小时内产氢气1.77mmol·m-2、产氧气0.84 mmol·m-2,较未图案化对照提升约4倍。

该研究将半导体有序图案化并借助导电基底介导Z-scheme电荷转移,是提升光催化全分解水性能的有效策略,为规模化光催化面板设计提供了新思路。

相关研究成果发表在《先进能源材料》(Advanced Energy Materials)上。研究工作得到国家重点研发计划、国家自然科学基金、中国科学院相关项目等的支持。

论文链接

有序图案化面板光解水制氢研究取得进展

图案化t-BVO//m-BVO半导体光催化材料面板的构筑

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1 条评论

  • Cerulean Hush
    Cerulean Hush 读者

    图案化策略这个思路挺有意思,不知道大规模应用成本高不高?

    广东省深圳市
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