研究构筑出有机锡硫属簇
文章导读
你是否想过,连接量子点与原子世界的桥梁,会因为一个固有的“电荷难题”而变得难以应用?中国科学家刚刚打破了这一瓶颈。他们采用巧妙的“有机胺配位—有机锡封端”协同策略,首次合成出两类电中性的超四面体金属硫族团簇。这不仅创造了目前核数最大的中性团簇记录,更关键的是,电中性与有机修饰赋予了它们卓越的溶解性。当作为光刻胶时,这些簇能在极低剂量下实现优于50纳米线宽的高分辨率图案,性能远超传统材料。这不仅是结构化学的突破,更为未来半导体纳米材料的精密加工打开了一扇全新的大门。
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超四面体金属硫族团簇,被视为立方相硫化锌的精确结构碎片,桥连了量子点与原子/分子尺度之间的鸿沟,在半导体纳米材料中占据关键位置。然而,该类团簇易形成热力学稳定的Td对称构型,且传统结构固有的负电荷,导致其溶解性差、易团聚,限制了团簇在溶液加工中的应用。
近日,中国科学院福建物质结构研究所提出“有机胺配位—有机锡封端”协同组装策略,合成出两类电中性的超四面体金属硫族团簇,实现了<50 nm线宽的高分辨率图案。
研究通过设计多元胺分子与锌离子配位,并结合丁基锡对团簇顶点封端效应,在分子尺度上精准中和了超四面体团簇簇核的固有负电荷,构筑了包含14个金属位点的四元金刚烷型团簇和包含20个金属位点的八元金刚烷型团簇。后者是目前已报道的核数最大的中性超四面体团簇,其分子对称性为C2v,突破了传统该类簇固有的Td对称性限制,展示了多元胺—有机锡化学协同策略对簇结构的调控能力。
电中性及表面有机修饰赋予该类团簇卓越的溶液加工性能。其中,OA-S型团簇在DMF有机溶剂中具有高溶解度,可通过旋涂制备出均匀、平整的薄膜。作为电子束光刻胶应用时,八元金刚烷硒簇展现出优异的性能,在较低剂量下即可实现50 nm以下线宽的高分辨率刻蚀图案,且灵敏度高于对应的硫簇。这归因于硒元素具有更大的光吸收截面,能够更高效地利用曝光能量。机理研究表明,曝光引发Sn-C键断裂及配体氧化降解,导致团簇结构解离并转化为硒化物纳米颗粒,从而实现负性图案成型。
这项工作丰富了超四面体团簇的结构多样性,发展出构筑电中性金属硫属团簇的新方法。
相关研究成果发表在《德国应用化学》上。

研究构筑出有机锡硫属簇
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这种把团簇做成电中性然后能旋涂成膜,实际上对工艺友好很多,想看看量产可行性。