武汉大学陆庆全/邹有全课题组在自由基卤化领域取得最新研究成果

（通讯员高妍）近日，Journal of the American Chemical Society（《美国化学会志》）在线发表武汉大学高等研究院教授陆庆全课题组和药学院教授邹有全课题组在有机电化学领域的最新研究成果。论文题目为“Taming Halogen Radicals via Electrophotocatalysis: Direct Access to Alkenyl Halides”。高等研究院博士后邹龙和已毕业硕士研究生向思琪为论文共同第一作者，陆庆全和邹有全为共同通讯作者，高等研究院为论文第一署名单位。

自由基卤化反应在合成化学领域占据极为重要的地位。目前，大多数自由基卤化反应需使用化学计量的自由基引发剂/氧化剂，或采用氯气、溴等有毒卤化试剂。由于卤素自由基寿命短（例如，氯自由基寿命小于5μs）且亲电性高，难以精确控制反应的化学选择性，导致从大量副产物和残留催化剂中分离目标产物面临巨大挑战。这些缺陷严重制约自由基卤化反应在制药工业中的实际应用。因此，如何革新传统方法以实现绿色可持续的有机合成，已成为亟待解决的难题。

电光催化驯服卤素自由基直接合成烯基卤化物

研究团队发展了“配对氧化还原催化”策略，基于地球丰产金属铁和镍，并结合光电化学，通过精准控制光源和电流，从而调控所需交叉偶联反应中卤素自由基的生成速率，实现高价值烯基卤化物的选择性合成。

该工作得到国家自然科学基金、广东省基础与应用基础研究基金、中国博士后科学基金项目、江苏省基础研究基金、湖北省博士后项目的支持，测试得到武汉大学科研公共服务条件平台的支持。

论文链接：https://pubs.acs.org/doi/10.1021/jacs.5c16668

（供图：高等研究院 编辑：相茹）