先进材料、光学与装备制造学术交流会信息整理

提示：以下仅为公开信息整理，投稿前请务必自行核实出版、检索相关情况，学术投稿请重视科研诚信，仔细阅读会议全部要求。

基础时间地点

会议简称：AMEM 2026 举办时间：2026.12.11‑12.13 举办城市：武汉

重要时间节点

1. 一轮截稿：2026‑11‑10
2. 最终截稿：2026‑12‑11
3. 审稿反馈：投稿后 5‑10 个工作日反馈录用 / 拒稿结果

会议简单介绍

这是一场围绕先进材料、光学、装备制造方向的跨学科学术交流活动，会设置主旨报告、平行分论坛，供高校、研究院、行业研发人员做成果交流。 评审采用双盲机制，有来自海内外多所院校组成技术委员会。录用稿件进入会议论文集，由 SPIE 出版，公开资料说明目标被 EI Compendex、Scopus 数据库收录。

提醒：数据库检索存在不确定性，投稿前建议自行查证往届收录情况，不要完全依赖会议宣传口径。

征稿方向（主要主题）

📌先进材料方向

• 功能材料设计制备、新型金属 / 复合材料、纳米材料、智能响应材料
• 材料表征、微观结构分析、力学 / 光学性能测试、耐久性评估

📌光学与光电器件

• 光学元件加工设计、光子器件集成、激光光源、光电传感探测
• 光学系统工程、光电子集成、激光应用、光学薄膜材料

📌精密与智能制造

• 精密加工成型、微纳制造、装备结构优化、表面涂层改性
• 智能测控装备、机电一体化、设备可靠性与寿命评价

稿件提交硬性要求

1. 只接收英文稿件，需要使用会议提供模板；
2. 建议全文不少于 6 页；
3. 不接受已经发表、或者正在其他渠道审稿的稿件，重视查重，规避抄袭、一稿多投；
4. 提交格式同时准备 Word+PDF。

可以投全文用于发表 + 口头汇报；也可仅提交摘要只做口头报告。口头报告语言要求英文，单场汇报含问答 15‑20 分钟。

会议大致日程

• 12.11 下午：参会签到注册
• 12.12 上午：开幕式、大会主旨报告
• 12.12 下午：各个分会场口头报告
• 12.13：可选学术交流活动（待定）

科研诚信相关规定摘抄

会议公开说明零容忍学术不端，抄袭、数据造假、一稿多投会取消稿件资格，纳入对应的学术诚信监管。所有投稿需要保证原创未发表。

个人投稿小建议

1. EI 会议不等于 100% 检索成功，数据库收录会受出版社、论文质量、数据库政策变动影响，一定要自己查往届会议的收录记录，不要仅凭会议介绍做判断。
2. 审稿周期很短（5‑10 工作日），投稿需要衡量自己论文完成度，避免匆忙投稿。
3. 优先核对大会委员会学者是否真实存在，可到学者个人主页交叉验证。

免责声明：本文仅整理网络公开可查阅的会议信息，不属于会议推广，不担保会议质量、出版与检索结果，一切以会议官方最新通知为准，科研投稿风险请自行承担。

[SPIE] 2026年先进材料、光学与装备制造国际会议（AMEM 2026）