
2026年半导体材料、芯片工艺与集成电路国际会议(SMCTIC 2026)
2026 International Conference on Semiconductor Materials, Chip Processes, and Integrated Circuits(SMCTIC 2026)
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●会议重要信息
会议官网:www.confs-online.com/smctic
会议截稿及召开时间:以官网时间为准(延期投稿请咨询会议组老师)
会议地点:重庆,中国
投稿主题请注明: SMCTIC 2026+通讯作者姓名(否则无法确认您的稿件)
●提交论文
1.直接将您的文章或摘要投到我们的会议邮箱,我们收到后会第一时间回复您。
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2.审稿流程:作者投稿-稿件收到确认(1个工作日)-初审(1-3工作日) -告知结果(接受/拒稿),越早投稿越早收到文章结果。
●会议简介
2026年半导体材料、芯片工艺与集成电路国际会议(SMCTIC 2026)定于2026年在中国重庆举行。会议主要围绕半导体材料、芯片工艺与集成电路展开讨论。会议旨在为从事相关研究的专家学者、工程技术人员、技术研发人员提供一个共享科研成果和前沿技术,了解学术发展趋势,拓宽研究思路,加强学术研究和探讨,促进学术成果产业化合作的平台。大会诚邀国内外高校、科研机构专家、学者,企业界人士及其他相关人员参会交流。
●论文收录
向SMCTIC 2026提交的所有全文都可以用英语书写,并将发送给至少两名评审员,并根据原创性、技术或研究内容或深度、正确性、与会议的相关性、贡献和可读性进行评估。SMCTIC 2026所有被接受的论文将在会议记录中发表,并提交给Scopus、EI Compendex、CPCI、CNKI、Google Scholar检索。
●征文主题
(主题包括但不限于)
主题一:半导体材料
新型半导体材料开发
纳米材料与二维材料应用
半导体材料表征技术
晶体生长与材料制备
材料缺陷与界面工程
功能材料与复合材料
先进沉积与蚀刻工艺
晶圆加工与制造技术
材料可靠性与失效分析
材料创新在半导体器件中的应用
主题二:芯片工艺
先进光刻工艺技术
刻蚀工艺与调控
薄膜沉积工艺
离子注入工艺优化
化学机械抛光工艺
晶圆键合工艺技术
芯片湿法清洗工艺
先进互连制造工艺
工艺缺陷检测与管控
芯片制造良率提升
主题三:集成电路
集成电路设计与制造
超大规模集成电路(VLSI)
片上系统(SoC)设计
低功耗设计技术
射频集成电路(RFIC)
电源管理集成电路(PMIC)
数字信号处理器(DSP)与应用
数字集成电路设计
模拟与混合信号电路设计
高频(RF)和微波电路设计
低功耗电路设计
可重构与自适应电路设计
半导体工艺技术
纳米制造与工艺开发
包装技术与3D集成电路
芯片测试与故障诊断
材料科学在集成电路中的应用
人工智能和机器学习在集成电路中的应用
●投稿说明
1.本会议官方语言为英语,投稿者务必用英语撰写论文。
2.稿件应为原创作品,未在国内外刊物上发表过,不接受一稿多投。作者可通过Turnitin查询系统查重。涉嫌抄袭的论文将不被出版。
3.请根据格式模板文件编辑您的文章。
4.文章至少6页。学生作者或多篇投稿有优惠。
5.只做报告不发表论文的作者只需提交摘要。
6.投稿主题请注明: SMCTIC 2026+通讯作者姓名(否则无法确认您的稿件)
联系方式:
会议官网:www.confs-online.com/smctic
投稿邮箱:eisubmission_in@163.com(备注邓老师推荐享投稿优惠)
投稿主题请注明: SMCTIC 2026+通讯作者姓名(否则无法确认您的稿件)
电话咨询:16786906743(微信同号)
QQ咨询:329900170
(您将在第一时间得到回复,添加时请备注“SMCTIC 2026”)
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