2026年电子化学品、光刻胶与湿电子化学品国际学术会议（ECPWE 2026）

会议简介


ECPWE 2026将在成都举行。成都作为中国西部电子信息产业的核心城市，在集成电路、显示面板等领域形成了完整的产业链，为电子化学品研究提供了良好的产业生态。


本届会议聚焦电子级化学品的纯度控制、光刻胶的分辨率提升及湿电子化学品的工艺优化，涵盖ArF、EUV光刻胶的树脂设计、光致产酸剂开发、线边缘粗糙度控制等关键技术。议题还包括高纯电子气体、CMP抛光液、清洗液、蚀刻液等配套材料的国产化替代进展。会议旨在突破半导体材料领域的”卡脖子”技术，支撑中国集成电路产业的自主可控发展。

大会信息


会议全称： 2026年电子化学品、光刻胶与湿电子化学品国际学术会议


会议简称： ECPWE 2026


收录检索： EI Compendex、Scopus、Inspec、CNKI、Google Scholar


大会地点： 中国·成都


出版优势： 高录用率 · 权威出版 · 稳定检索


刊号资质： ISSN/ISBN双刊号


优惠政策： 团队投稿/学生投稿享专属优惠

征稿主题


会议主题包括但不限于以下方向：


电子化学品： 高纯电子气体、电子级溶剂、电子级酸、电子级碱、电子级特种气体、纯度控制技术



光刻胶： g线/i线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶、EUV光刻胶、树脂设计、光致产酸剂、线边缘粗糙度控制、分辨率提升



湿电子化学品： CMP抛光液、清洗液、蚀刻液、剥离液、显影液、再生技术、国产化替代


其他与电子化学品、光刻胶及湿电子化学品相关的主题均可投稿。

参与方式


旁听参会： 不投稿、不参与演讲及展示，仅聆听学术交流。


汇报参会： 提交摘要，进行10–15分钟口头报告演讲。


投稿参会： 文章收录于会议论文集，出刊后统一提交数据库检索。

检索与出版


所有投稿经2–3位组委会专家严格审稿，录用后以会议论文集形式出版。出版后提交至EI Compendex、Scopus、Inspec等权威数据库检索。


优质期刊推荐：


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论文提交指南


全文投稿：


稿件须为全英文，Word格式；


可投至会议邮箱或官网；


邮件标题格式：作者姓名 + 联系方式 + 投稿；



摘要投稿（仅作报告）：


无需发表文章者，请将摘要投递至组委会邮箱。摘要无严格格式要求，需包含标题、内容、关键词、作者信息。篇幅建议控制在1页以内，最长不超过2页。