2026年光学成像、光电子技术与激光应用国际会议（ICOIOTLA 2026 ）

2026年光学成像、光电子技术与激光应用国际会议（ICOIOTLA 2026 ）

2026 International Conference on Optical Imaging, Optoelectronic Technology, and Laser Applications（ICOIOTLA 2026 ）

开会时间：2026年6月30日（暂定）江苏，中国（线上+线下）

一、会议重要信息

截稿时间：2026年6月10日（延期投稿者请咨询会议组江老师）

审核录用：投稿后约3个工作日

会议出版：IEEE、SPIE、ACM等权威出版社

会议收录：EI Compendex, Scopus, CPCI，Google Scholar, CrossRef, ResearchGate等数据库稳定检索

注：投稿文章均将以会议论文集形式正式出版，出版后收录有ISSN和ISBN双刊号。团队及学生投稿享有优惠，具体请咨询会议组江老师。若不投稿，亦欢迎报名参与口头汇报或旁听。如需了解SSCI/SCI期刊、中文核心期刊或三大网省级期刊等其他发表资源，也欢迎联系会议组老师咨询。

二、大会介绍

2026年光学成像、光电子技术与激光应用国际会议（ICOIOTLA 2026 ）将在中国江苏举行。将围绕“光学成像、光电子技术与激光应用”的最新研究领域，为来自国内外高等院校、科学研究所、企事业单位的专家、教授、学者、工程师等提供一个分享专业经验，扩大专业网络，面对面交流新思想以及展示研究成果的国际平台，探讨本领域发展所面临的关键性挑战问题和研究方向，以期推动该领域理论、技术在高校和企业的发展和应用，也为参会者建立业务或研究上的联系以及寻找未来事业上的全球合作伙伴。

三、
征稿主题

（包括但不限于）：

主题一：光学成像

计算光学成像理论与方法、超分辨率显微成像技术、全息成像与三维显示、相干衍射成像与相位恢复、荧光显微与超分辨定位显微、光声成像与多模态融合成像、光学相干层析成像技术、散斑成像与无透镜成像、单光子成像与量子成像、红外与热成像技术、太赫兹成像技术、压缩感知与稀疏成像、生物医学光学成像应用、遥感与空间光学成像、深度学习在光学成像中的应用；

主题二：光电子技术

光电子器件设计与制备、光电探测与传感器技术、光电显示与发光器件、硅基光电子与集成光子学、光调制器与光开关技术、光存储与光记录技术、光电信号处理与传输、光伏电池与光电转换、有机光电子与柔性光电器件、微纳光电子结构与器件、光电子封装与系统集成、光电测试与测量技术、光电子材料与表征、红外与紫外光电子技术、光电子技术在通信/传感/医疗中的应用；

主题三：激光应用

激光物理与新型激光器、高功率与超快激光技术、光纤激光器与固体激光器、半导体激光器与气体激光器、中红外与太赫兹激光技术、激光束整形与光场调控、激光加工与微纳制造、激光切割/焊接/打标/清洗技术、激光增材制造与表面处理、激光雷达与三维成像、激光光谱与痕量检测、激光医学与生物光子学、激光武器与国防应用、激光驱动粒子加速与核物理、激光在科研与工业中的创新应用。

四、投稿流程

1.直接将您的文章或摘要投到我们的会议邮箱，我们收到后会第一时间回复您。

2.审稿流程：作者投稿-稿件收到确认（1个工作日）-初审(3个工作日)-告知结果（接受/拒稿），越早投稿越早收到文章结果。

五、投稿说明

1.本会议官方语言为英语，投稿者务必用英语撰写论文。如需翻译服务请联系会议组江老师详询。

2.向ICOIOTLA 2026 提交的所有文章将发送给至少两名评审员，并根据原创性、技术或研究内容或深度、正确性、与会议的相关性、贡献和可读性进行评估。

3.论文应具有学术或实用价值，未在国内外学术期刊或会议发表过。作者可通过CrossCheck,Turnitin或其他查询系统自费查重，否则由文章重复率引起的被拒搞将由作者自行承担责任。涉嫌抄袭的论文将不被出版。

4.文章至少6页。论文模板请至官网下载。学生作者或多篇投稿有优惠。

5.只做报告不发表论文的作者只需提交摘要。

六、参会方式

1、主讲嘉宾：申请主题演讲，由组委会审核；

2、口头演讲：申请口头报告，时间为10分钟左右；（名额有限，优先报名）

3、听众参会：不投稿仅参会旁听；