一、期刊概况与学术地位
《JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY》(简称JPST)是光聚合材料领域最具影响力的国际期刊之一。创刊于1988年,该期刊专注于光聚合反应机理、光敏材料开发、光刻技术应用等前沿研究。2025年最新发布的期刊影响因子达到3.85,在聚合物科学类别中位列Q2区,年发文量稳定在120篇左右。特别值得注意的是,该期刊在光刻胶技术领域的论文被引率连续五年保持20%以上的增长率,反映出半导体产业对相关研究的强烈需求。
期刊编委会由来自美、日、德、中等国的21位顶尖学者组成,其中包含5位国际光学工程学会会士。审稿周期通常为8-12周,采用双盲评审制度。2025年起,JPST开始要求所有实验研究类论文必须提供原始数据存储链接,这一政策显著提升了期刊的学术透明度。对于中国研究者而言,该期刊近年来中国作者占比已提升至28%,成为展示我国光聚合科研成果的重要窗口。
二、核心投稿领域与热点方向
JPST明确界定了六大优先发表领域:极紫外光刻材料、双光子聚合体系、生物相容性光聚合物、光致形状记忆材料、光固化3D打印技术、新型光引发剂设计。2025年投稿数据显示,关于”高分辨率EUV光刻胶”的论文接收率最高(约42%),这直接呼应了全球芯片制造工艺向3nm以下节点迈进的技术需求。期刊主编在2025年编委会报告中特别指出,具有产业转化潜力的应用研究将获得优先审稿权。
值得关注的新兴方向包括:AI辅助的光聚合配方优化(2025年相关论文增长300%)、面向柔性电子的光固化导电材料、以及环境响应型智能光聚合物。但传统的光固化涂料研究方向由于创新性不足,近年来的退稿率高达65%。投稿者需特别注意,JPST从2025年第二期开始增设”光聚合与碳中和”特色专栏,聚焦低能耗光固化技术的开发与应用。
三、成功投稿的五大关键策略
标题设计需包含具体技术参数。数据分析显示,含有数值指标(如”>200mJ/cm²灵敏度”)的论文标题通过初审概率提高37%。实验部分必须包含与工业标准的对比测试,JPST在2025年拒稿意见中最常出现的批评就是”缺乏实际应用参照系”。第三,引言部分要准确引用该期刊近三年相关论文,这被视为研究者熟悉领域动态的重要证据。
第四,图表制作需符合期刊最新规范:2025年起要求所有光谱图必须标注标准物质参照峰,SEM照片需包含比例尺和加速电压参数。讨论部分应明确陈述研究局限性与产业转化路径,单纯强调学术创新的论文接收率已降至29%。根据2025年统计数据,严格遵循这些策略的投稿者,从提交到最终接收的平均周期可缩短至67天。
问题1:JPST期刊对光刻胶研究论文有哪些特殊要求?
答:要求提供详细的感度测试数据(包括E
0、D100等参数)、必须包含与ASML或尼康光刻机的兼容性实验、需要论证线宽粗糙度(LWR)控制方案,如果是EUV光刻胶还需附电子束曝光对比数据。
问题2:中国学者在JPST投稿时最常见的退稿原因是什么?
答:2025年数据显示主要是:创新点阐述不清晰(占退稿量的43%)、英文写作不符合学术规范(31%)、缺乏量化比较基准(26%)。建议投稿前使用期刊提供的语言润色服务。
© 版权声明
本文由分享者转载或发布,内容仅供学习和交流,版权归原文作者所有。如有侵权,请留言联系更正或删除。
相关文章
暂无评论...
















